『公司动态』PG电子(中国官方网站)在半导体领域的最新动态,包括技术突破、产品发布及公司活动,见证我们如何推动行业发展。

洞察趋势!智研咨询发布光刻机行业:深入了解中国光刻机行业市场现状及前景趋势预测

2025-03-12  

  光刻机,又称光刻对准曝光机、掩模对准曝光机、曝光系统或光刻系统等,是光刻工艺乃至整个芯片制造过程中的核心设备。近几年来,随着半导体产业的加速崛起,我国光刻机应用需求迅速激增。同时,我国政府正在加快努力推动半导体产业发展,光刻机是中央政策指明要重点突破发展卡脖子技术及装备,因此,国内光刻机行业得到了资金支持、税收优惠等一系列国家政策倾斜,持续助力了国产光刻机生产能力提升,推动了国内光刻机市场规模上涨。据统计,2023年,我国光刻PG平台 PG电子官网机产量达124台,全国光刻机市场规模已突破至160.87亿元。

  相关上市企业:阿斯麦(0M42);芯碁微装(688630);富创精密(688409);南大光电(300346);芯源微(688037);雅克科技(002409);新莱应材(300260);大族激光(002008);容大感光(300576);旭光电子(600353);赛微电子(300456)等

  相关企业:上海微电子装备(集团)股份有限公司;天津芯硕精密机械有限公司;北京科益虹源光电技术有限公司等

  关键词:产业链;全球光刻机市场规模;国内光刻机产量;国内光刻机市场规模;产业竞争格局;发展趋势等

  光刻机,又称光刻对准曝光机、掩模对准曝光机、曝光系统或光刻系统等,是光刻工艺乃至整个芯片制造过程中的核心设备。按操作简便性程度,光刻机可分为手动光刻机、半自动光刻机和全自动光刻机;按曝光方式的不同,可分为接近接触式光刻机、直写光刻机和光学投影式光刻机;按光源类型的不同,可分为紫外(UV)光刻机、深紫外(DUV)光刻机和极紫外(EUV)光刻机。

  光刻机行业产业链上游为光刻机生产所需的材料、设备及组件的生产供应环节,主要包括光刻胶、电子特气、涂胶显影设备等材料及设备,以及激光器、掩膜板、掩膜台、遮光器等组件产品。产业链中游为光刻机生产制造环节,代表厂商有ASML、Canon、大族激光、芯碁微装、Nikon、上海微电子等。产业链下游为光刻机应用需求领域,主要包括芯片制作、芯片封装、功率器件制造、LED、MEMS制造等产业。

  近年来,消费电子领域的需求呈现出相对低迷的态势,然而,在这样的大环境下,电动汽车、风光储以及人工智能等崭新的需求领域却异军突起,成为了半导体产业持续成长的强劲新动能。在这些新兴需求的有力推动下,全球光刻机应用需求不断增加,市场规模实现了平稳增长。数据显示,2023年,全球光刻机市场规模已增长至271.3亿美元,2024年有望进一步增至315亿美元。

  从全球光刻机产品销量结构占比情况来看,目前全球光刻机行业销售仍以中低端产品(KrF、i-Line)为主,占比分别为37.9%和33.6%;其次分别为ArFi、ArF dry、EUV,占比分别为15.4%、5.8%及7.3%。这表明不同类型光刻机在市场中的需求存在差异。值得注意的是,近年来,随着半导体产业发展,EUV已逐渐成为全球光刻机的重要发展方向之一,将成为未来全球光刻机行业发展的主要推力。

  注:本文节选出自智研咨询发布的《研判2025!中国光刻机行业产业链、产业现状、竞争格局及未来前景:行业高度依赖进口,国产光刻机任重道远[图]》行业分析文章,如需获取行业文章全部内容,可进入智研咨询官网搜索查看。

  由智研咨询专家团队精心编制的《中国光刻机产业发展态势及投资决策建议》(以下简称《》)重磅发布,《》旨在从国家经济及产业发展的战略入手,分析光刻机行业未来的市场走向,挖掘光刻机行业的发展潜力,预测光刻机行业的发展前景,助力光刻机行业的高质量发展。

  本《》从2024年全国光刻机行业发展环境、整体运行态势、运行现PG平台 PG电子官网状、进出口、竞争格局等角度进行入手,系统、客观的对我国光刻机行业发展运行进行了深度剖析,展望2025年中国光刻机行业发展趋势。《》是系统分析2024年度中国光刻机行业发展状况的著作,对于全面了解中国光刻机行业的发展状况、开展与光刻机行业发展相关的学术研究和实践,具有重要的借鉴价值,可供从事光刻机行业相关的政府部门、科研机构、产业企业等相关人员阅读参考。

  公司以“用信息驱动产业发展,为企业投资决策赋能”为品牌理念。为企业提供专业的产业咨询服务,主要服务包含精品行研、专项定制、月度专题、可研、商业计划书、产业规划等。提供周报/月报/季报/年报等定期和定制数据,内容涵盖政策监测、企业动态、行业数据、产品价格变化、投融资概览、市场机遇及风险分析等。返回搜狐,查看更多

上一篇:台积电2纳米制程技术震撼发布:性能跃升15%、功耗降低30%
上一篇:芯碁微装:公司以直写光刻技术为核心深耕PCB直接成像设备及自

猜你喜欢

  • 国产DUV光刻研发成功 3nm制程可以量产了

    国产DUV光刻研发成功 3nm制程可以量产了

      中国科学院近日宣布在激光技术领域取得重大突破,成功研发出固态深紫外(DUV)激光源。这款创新性的激光源能够发射出与当前主流DUV曝光技术波长相同的193纳米相干光,为半导体工艺提升至3纳米节点提供了有力支持。PG平台 PG电子官网  据了解,目前市场上主流的DUV光刻机,如ASML、佳能和尼康等品牌,均依赖于氟化氙...
  • 华盛昌投资纳米压印领域优质标的:拟收购雕拓科技9%股份深化前

    华盛昌投资纳米压印领域优质标的:拟收购雕拓科技9%股份深化前

      (002980)披露对外投资公告称,为提高公司技术创新能力和核心竞争力,拟以自有资金900万元向深圳市雕拓科技有限公司(简称“雕拓科技”)进行增资,并在本次增资完成后,持有雕拓科技9%股权。  华盛昌表示,此次投资符合公司在MEMS传感器芯片、生物芯片和光学器件等前沿技术领域的战略布局。PG电子平台 PG电子网站同...
  • 光刻机的秘密:比还稀有

    光刻机的秘密:比还稀有

      光刻机,在半导体芯片生产的复杂流程中,扮演着最为关键的角色。其制pg电子(中国官方网站)造的难度之大,竟至超越了。这听起来似乎令人难以置信,但当我们深入探究光刻机的制造过程后,便会发现,此言非虚。  首先,光刻机的制造涉及多个高科技领域的紧密协作。一台顶尖的光刻机,例如荷兰 ASML 公司生产的 EU 级紫外光刻机...
  • “熟透了”的28nm老制程为何让美方紧张了

    “熟透了”的28nm老制程为何让美方紧张了

      美国近年来对中国芯片产业的打压已经从高端芯片领域扩展到了传统芯片领域,这一转变不仅反映了美国对中国半导体产业快速崛起的战略焦虑,也揭示了其在全球半导体供应链中的竞争压力。  自12月2日美国发布新一轮对华芯片出口禁令以来,不断有知情人士向外媒透露拜登政府在卸任前将采取的下一步动作。美国《》12月16日报道称,根据知...
微信

手机扫一扫添加微信