网站首页
关于pg
核心技术
媒体资源
产品与解决方案
先进光刻技术
纳米制程优化
高性能CPU设计
AI与数据中心解决方案
公司动态
行业资讯
新闻中心
加入我们
联系我们
『公司动态』PG电子(中国官方网站)在半导体领域的最新动态,包括技术突破、产品发布及公司活动,见证我们如何推动行业发展。
首页
>
公司动态
>
行业资讯
美国光刻技术突破:EUV光源效率提升十倍芯片制造迎来新纪元
2025-03-17
上一篇:“全景光刻”时代如何加速与光刻人才的双向奔赴?
上一篇:28nm再起风云
猜你喜欢
2025年中国曝光机产业:政策驱动与市场机遇深度解析
福建用户提问:5G牌照发放,产业加快布局,通信设备企业的投资机会在哪里? 四川用户提问:行业集中度不断提高,云计算企业如何准确把握行业投资机会? 河南用户提问:节能环保资金缺乏,企业承受能力有限,电力企业如何突破瓶颈? 随着科技的飞速发展与产业升级的加速推进,中国曝光机产业正迎来前所未有的发展机遇。特别是在政...
日本半导体厂商Rapidus与博通联手6月有望推出2纳米芯片
随着技术的不断进步,半导体行业正迎来新的变革。2024年1月8日,来自日经新闻的报道透露,日本半导体制造商Rapidus计划与美国知名芯片制造商博通合作,最快将在今年6月与其分享2纳米制程芯片原型。这一消息不仅令业界关注,也为半导体从业者、企业和技术爱好者带来了新一轮的期待与思考。 Rapidus作为一家新兴的半...
台积电美国工厂正式投产4纳米芯片2025上半年将迎来大规模量
在全球半导体产业雪崩般变化的今天,台积电(TSMC)在美国亚利桑那州凤凰城的芯片制造厂终于迎来了值得瞩目的发展。这座备受期待的工厂近日正式启动了4纳米芯片的生产线,标志着台积电在美国本土首次进行先进芯片的大规模制造。这一里程碑式的进展不仅彰显了台积电在全球半导体行业的领先地位,也预示着美国半导体产业的进一步壮大与转...
中国第二代光刻机多少nm
手机扫一扫添加微信