今年9月,工业和信息化部发布通知,包括“分辨率≤65nm,套刻≤8nm”的光刻机。
迄今为止,世界上仅有荷兰和日本有成熟的光刻机制造技术,我国此前的芯片制造也需要依赖它们。
我国始终是走独立自主的道路的,尤其现在面对外部施压,研发国产光刻机刻不容缓。
它需要制造者拥有扎实的光学、电子、机械等多领域知识,并且有过人的创新研发能力。
其次,需要高度精密的加工工艺,因为所有部件都需要控制在亚微米甚至纳米级别。
EUV光刻机大概有一辆公共汽车那么大,庞大的身躯包含10万个部件和2公里长的电缆。
但这时候就有人困惑,荷兰连都造不出来,为什么能造出美国都造不出的EUV光刻机呢?
这就使得ASML无法彻底拜托美国的控制,更何况它的国家——荷兰是美国的长期盟友。
以美国为首的西方阵营,对中国半导体发展的歧视和遏制,从上世纪末、本世纪初就开始了。
顶着西方国家的嘲笑,我们的各项技术高速发展,直到2018年,中科院研制的“超分辨光刻装备”通过验收。
例如今年9月份,路透社报道称,美国以所谓“国家安全”之名,软硬皆施逼迫ASML限制半导体的对华出口,ASML迫于政治压力,只能扩大管制。
与此同时,日本、韩国等半导体产业相对发达的国家,也承受着来自美国的压力。
光刻机制造需要高度专业化的工业链,从现阶段的生产水平来看,它需要多个国家、多个产业的协作。
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