『核心技术』PG电子(中国官方网站)以先进的纳米制程和极紫外(EUV)光刻技术为核心,突破芯片制造极限,为CPU性能优化和晶体管密度提升提供强大支持。

技术中心

  • 纳米制程

    纳米制程

    从28纳米到2纳米工艺,实现芯片性能与集成度的双重突破
  • 光刻技术

    光刻技术

    EUV光刻设备与工艺,打造精密芯片制造平台
  • CPU架构

    CPU架构

    多核心设计与低功耗优化,提供全面性能解决方案
  • 芯片封装

    芯片封装

    2.5D与3D封装技术,优化散热性能与集成度
PG电子官方芯片制造

研发创新

PG电子官方研发中心
  • 工艺创新

    工艺创新

    持续推进纳米制程工艺优化,深化光刻技术研发,为芯片性能提升提供技术支持

解决方案

  • 制程优化

    制程优化

    提供全流程制程工艺支持,助力芯片制造水平提升
  • 性能提升

    性能提升

    通过多核架构设计与工艺优化,实现CPU性能全面提升
  • 技术支持

    技术支持

    提供芯片设计到制造的全程技术支持服务
PG电子官方解决方案
微信

手机扫一扫添加微信