技术中心
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纳米制程
从28纳米到2纳米工艺,实现芯片性能与集成度的双重突破 -
光刻技术
EUV光刻设备与工艺,打造精密芯片制造平台 -
CPU架构
多核心设计与低功耗优化,提供全面性能解决方案 -
芯片封装
2.5D与3D封装技术,优化散热性能与集成度

研发创新

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工艺创新
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解决方案
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制程优化
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技术支持
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