网站首页
关于pg
核心技术
媒体资源
产品与解决方案
先进光刻技术
纳米制程优化
高性能CPU设计
AI与数据中心解决方案
公司动态
行业资讯
新闻中心
加入我们
联系我们
『产品与解决方案』PG电子(中国官方网站)从先进制程设备到光刻解决方案,为客户提供全面支持,以卓越的技术助力芯片制造实现更高性能、更低功耗的目标。
首页
>
产品与解决方案
>
先进光刻技术
先进光刻技术
纳米制程优化
高性能CPU设计
AI与数据中心解决方案
浸没式光刻(Immersion Lithography)
通过高折射率液体提高分辨率,助力芯片集成度提升。
2025-01-02
极紫外光刻(EUV Lithography)
专注于13.5纳米波长的EUV光源,为芯片制造提供高精度图案转移,支持2纳米及以下制程。
2025-01-02
共
1
页
2
条
手机扫一扫添加微信