『公司动态』PG电子(中国官方网站)在半导体领域的最新动态,包括技术突破、产品发布及公司活动,见证我们如何推动行业发展。

ASML石墨烯光刻专利获批AI助力半导体创新

2025-02-18  
上一篇:台积电“川关难过”
上一篇:重磅消息!美国研发出新型BAT激光器:效率是现有EUV光刻机

猜你喜欢

  • 美国豪掷825亿美元补贴EU光刻技术背后隐藏着怎样的科技竞赛

    美国豪掷825亿美元补贴EU光刻技术背后隐藏着怎样的科技竞赛

      近日,美国商务部与国家半导体技术中心(NSTC)宣布将在纽约州奥尔巴尼打造CHIPS for America EU加速器,预计获得8.25亿美元的联邦投资支持。这一举措不仅标志着美国在半导体技术研发上的重大投入,也揭示了全球科技竞争中的一场关键战役。  要理解这场现代科技竞赛的重要性,我们不妨回溯到上世纪末期。19...
  • 美国光刻技术突破:EUV光源效率提升十倍芯片制造迎来新纪元

    美国光刻技术突破:EUV光源效率提升十倍芯片制造迎来新纪元

  • iPhone 18 或全系搭载 2 纳米芯片性能大幅提升

    iPhone 18 或全系搭载 2 纳米芯片性能大幅提升

      3月24日消息,据相关报道,尽管台积电的2纳米制程工艺已于去年7月进入风险试产阶段,并在去年年底实现了超过60%的良品率,按计划将在今年开始量产,但苹果今年秋季推出的iPhone 17系列智能手机仍然不会采用这一先进制程工艺的芯片。据悉,iPhone 17系列将搭载的A19系列芯片,将由台积电的第三代3纳米制程工艺...
  • 2纳米量产竞赛:台积电与三星的较量背后

    2纳米量产竞赛:台积电与三星的较量背后

      随着生成式AI的迅猛发展,算力需求日益增加,全球半导体产业对于先进制程的渴求也愈发迫切。尤其是即将到来的2025年,2纳米制程技术的量产商用引发了广泛关注。在近期举行的IEEE国际电子器件会议(IEDM)上,全球晶圆代工巨头台积电(TSMC)公布了其创新的2纳米(N2)制程技术的最新成果。相较于前代的3纳米制程,N...
微信

手机扫一扫添加微信