网站首页
关于pg
核心技术
媒体资源
产品与解决方案
先进光刻技术
纳米制程优化
高性能CPU设计
AI与数据中心解决方案
公司动态
行业资讯
新闻中心
加入我们
联系我们
『公司动态』PG电子(中国官方网站)在半导体领域的最新动态,包括技术突破、产品发布及公司活动,见证我们如何推动行业发展。
首页
>
公司动态
>
行业资讯
国产EU光刻机一旦成功美国必败!专家:中芯国际能追上台积电靠这三个条件
2025-01-24
上一篇:7纳米以下线纳米工艺已够用各大领域
上一篇:荷兰决定“隐藏”光刻机巨头ASML对华销售情况
猜你喜欢
2纳米时代将迎来谁的王者?台积电与三星的制程大战
随着生成式AI浪潮的兴起,全球对半导体先进制造技术的渴求越发强烈。而2纳米制程的商用时间节点锁定在2025年,让这个话题的热度再度升温。在最近举行的IEEE国际电子器件会议(IEDM)上,全球晶圆代工巨头台积电公布了其创新的2纳米(N2)制程技术,展现出惊人的技术优势:相比上代N3制程,性能提升15%,晶体管密度提...
维信诺ViP技术“全家桶”亮相2025ICDT 加速中大尺寸
3月22日至25日,2025国际显示技术大会(简称ICDT)在厦门举办。在本届展会上,深耕AMOLED业务的维信诺公司亮相的ViP技术“全家桶”产品备受关注,现场展出14.2英寸柔性ViP AMOLED显示屏,以及6.88英寸的手机屏和1.5英寸手表屏,“大秀”技术成熟度,更展现了ViP技术从消费电子到更多商业显示...
AI算力狂飙EUV光刻技术挑战极限
PG电子平台 PG电子网站用于支持一切人工智能(AI)先进节点芯片的需求快速增长,给该行业满足需求的能力带来了压力。 从支持大语言模型的超大规模数据中心,到智能手机、物联网设备和自主系统中的边缘AI,各种应用对尖端半导体的需求都在加速增长。但制造这些芯片严重依赖极紫外(EUV)光刻技术,这已成为扩大生产的最大障碍...
美国光刻技术突破:EUV光源效率提升十倍芯片制造迎来新纪元
手机扫一扫添加微信